一般而言，X-射線熒光法測量鍍膜厚度基本上需符合下述的要求：
1. 不破壞的測量下具高精密度。
2. 極小的測定面積。
3. 中間鍍膜及素材的成份對測量值不產生影響。
4. 同時且互不干擾的測量上層及中間鍍膜 。
5. 同時測量雙合金的鍍膜厚及成份。
而X-射線螢光法就可在不受素材及不同中間膜的影響下得到高精密度的測量。
X-射線熒光法測量鍍膜厚度
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07-12-20 16:49
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